等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展

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等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展
王巍 一．
(1．重庆邮电学院光电工程系，
叶甜春 ，刘明
重庆400065；2．中国科学
， 陈大鹏
院微电子研究所， 北京100029)
摘要：先进过程控$1J(APC)是一个多层次的控制系统，其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR
控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程，本文分别
从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述，概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模
型。最后，讨论了APC 技术的发展趋势。
关键词：等离子体刻蚀；先进过程控制； 实时控制；流程与流程控制