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MOS-FET晶体管工作特性

MOS-FET晶体管工作特性

点击数:7521 次   录入时间:03-04 11:45:41   整理:http://www.55dianzi.com   元器件基础知识

  N沟道增强型MOS-FET常采用共源连接方式.其源极与衬底连接并接地,电路如下图所示。其输出特性曲线分为三个工作区:可调电阻区、饱和区和雪崩区。各工作区的特点如下:可调电阻区:漏极电流ID随VDs的变化近似于线性变化,所以又称为线性区。
  
  饱和区:漏极电流ID几乎不随VDs变化,但当VGs增大时,由于沟道电阻减小,其饱和电流值也相应增大,所以饱和区为MOS-FET的线性放大区。
  
  雪崩区:又称为击穿区,当VDS大于某一电压时,漏极与衬底的PN结发生反向击穿.ID就急剧增加,特性曲线进入雪崩区.在调整放大器时,应避免工作在击穿区。

MOS-FET晶体管




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